负型光刻胶
产品类别:
英文名称:
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博深公司专利产品。为微光学器件制备而研制的光刻胶,特别适用用于深度刻蚀以及任意曲面面型透镜、微透镜阵列的制备。微透镜阵列的高度可达到60微米以上。光刻胶可用甩胶或其它方法施胶，水性试剂显影，不含有机溶剂和有害成分，使用安全、方便。。
| 品名: | 负型光刻胶 |
|---|---|
| 用途: | 暂无数据 |
| 别名 | 暂无数据 |
博深公司专利产品。为微光学器件制备而研制的光刻胶,特别适用用于深度刻蚀以及任意曲面面型透镜、微透镜阵列的制备。微透镜阵列的高度可达到60微米以上。光刻胶可用甩胶或其它方法施胶，水性试剂显影，不含有机溶剂和有害成分，使用安全、方便。。
| 品名: | 负型光刻胶 |
|---|---|
| 用途: | 暂无数据 |
| 别名 | 暂无数据 |